Keramické naprašovací terče

• Rozprašovací terč 4N ZrO2 s Cu zadní deskou

  Naše rozprašovací terče s oxidem zirkoničitým se zadními deskami jsou vyrobeny z vysoce čistého materiálu oxidu zirkoničitého, který je bezpečně spojen s kovovou nosnou deskou; tato konstrukce...

  Více
• ZrC naprašovací terč s Cu zadní deskou

  Naše naprašovací elektrody z karbidu zirkonia (ZrC) s měděnými podkladovými deskami se vyznačují robustní vazbou mezi vysoce{0}}čistým materiálem elektrody ZrC a měděným podkladem. Tato konstrukce...

  Více
• Ta 5at% dopovaný ZrC rozprašovací terč

  Přesné dotování karbidu zirkonia s poměrem 5 atomových procent tantalu výrazně zvyšuje odolnost cílového materiálu vůči vysokým-teplotám, tepelným šokům a korozi. Díky vysoké čistotě a jednotné...

  Více
• Naprašovací terč 4N IGZO

  Naše naprašovací terče 4N IGZO poskytují stabilnější a efektivnější naprašovací výkon. Specializují se na špičkové-displejové a polovodičové aplikace a usnadňují realizaci vynikající mobility...

  Více
• 4N HfO2 terč s Cu zadní deskou

  Rozprašovací terč 4N HfO₂ s měděným podkladem využívá materiál oxidu hafnia o čistotě 99,99 %. Integrovaný s měděným podkladem nabízí vynikající tepelnou vodivost a je ideální pro optické...

  Více
• 4N HfO2 dopovaný 2% Ti Target

  Rozprašovací elektroda HfO₂ dopovaná 2 % Ti- je vyrobena s použitím vysoce čistého substrátu oxidu hafnia, přesně dopovaného 2 % titanu. Vyznačuje se svou jednotností složení a vysokou hustotou a...

  Více
• Rozprašovací terč 4N HfO2

  4N High{1}}Purity Hafnium Dioxide Sputtering Target (99,99% čistota) – vhodný pro aplikace v optických nátěrech, polovodičích a přesné elektronice. Vyznačuje se vysokou hustotou, jednotným...

  Více
• B4C rozprašovací terč

  Tento produkt využívá vysoce{0}}čisté suroviny na bázi karbidu boru a vyznačuje se mimořádnou tvrdostí a robustní tepelnou stabilitou, díky čemuž je ideální pro aplikace ve výrobě polovodičů,...

  Více
• Přizpůsobené HfC částice

  Popis přizpůsobených částic HfC Částice HfC se typicky syntetizují reakcí oxidu hafničitého (HfO₂) s uhlíkem při vysokých teplotách (1900–2300 stupňů) v inertní nebo redukční atmosféře. Jádro...

  Více
• Oxid cínu (SnO2) naprašovací terč

  Oxid cínový terčík (SnO2) je důležitý anorganický nekovový materiál. Díky svým jedinečným fyzikálním a chemickým vlastnostem hraje důležitou roli v mnoha high-tech oborech. Mezi jeho hlavní...

  Více
• Rozprašovací terč oxidu tantalu (Ta2O5).

  Naprašovací terč z oxidu tantalu lze použít v polovodičových, chemických napařovacích (CVD), fyzikálních napařovacích (PVD) displejích a optických aplikacích. Jsme dodavatelem vysoce kvalitních...

  Více
• Naprašovací terč s oxidem titaničitým (TiO2).

  Oxid titaničitý (TiO2) je nejrozšířenějším bílým pigmentem, například v barvách. Má vysoký jas a velmi vysoký index lomu (2,609 pro rutil).

  Více